蒸着技術詳細｜河合光学株式会社｜AR｜ダイクロ｜UVCF｜ハーフミラー｜ビームスプリッター｜ミラー｜フィルター｜オーロラ蒸着

蒸着技術詳細

真空蒸着とは、1.0E-3Pa以下の真空中で金属や酸化物等を電子銃などで加熱し蒸発させ、発生した分子を基板表面に堆積させ、薄膜を形成させる技術です。

スパッタとは、1.0E-2Pa以下の真空中に不活性ガス（主にArガス）を導入しながら基板とスパッタ材間に直流高電圧を印加し、イオン化したArをスパッタ材に衝突させて、はじき飛ばされたスパッタ物質を基板に成膜させる技術です。

利用されることの多い蒸着膜、スパッタ膜です。
この他にも多くの物質に対応させていただいております。お気軽にお問い合わせ下さい。

光学膜とは単層または多層（1層～数百層）の構成より成り立ち、各層の境界面で生じる光の反射の干渉を利用し、必要な反射特性及び透過特性をもつ製品です。

光学分野	200nm～25μmの電磁波におけるミラー/フィルターの製造にあたり、光の種類（紫外線、可視光線、赤外線など）や、使用環境を十分に考慮しながら、これまで蓄積されたデータを元に、お客様に最適な薄膜を提案しております。また精密な薄膜設計と、当社で開発した成膜システムにより、レーザー波長などご希望の波長の光を選択的に取り出したり、カットすることが可能です。
真空分野	真空分野では、コーティングを含め、真空を利用した様々な装置への応用も手掛けております。
		・コーティング装置	真空蒸着装置　スパッタリング装置　CVD装置など
		・その他	ドライエッチング　真空焼結装置など
薄膜分野	導電性、高硬度性、絶縁性、撥水性、撥油性、防曇性、メタライズなどの特性をもたせた、機能性薄膜の製造も行なっております。
		機能性薄膜
		・撥水性	・撥油性	・防曇性	・メタライズ
		・高硬度性	DLC　TiN　TiCなど
		・バリア膜	Si3N4　SiC　ZrC　ZrNなど